ALCERA--ITO靶材炉
ALCERA--ITO靶材炉
氧化烟锡(俗称ITO)薄膜被广泛应用在平板显示器、半导体领域及其他的元器件上。市场需求量保持着极高的年增长率,但是高端靶材几乎被国外的几家公司垄断,国内的需求不得不依靠进口,价格高交期长。
ALC针对市场需求,引进日本技术,不断研发改进,推出性能卓越的ITO靶材烧结炉,助力国内高端靶材市场,提供大尺寸平板烧结炉,管靶烧结炉,为国内靶材制造商烧结工艺增加了更多的选择。
性能参数:
使用温度:1650度
炉内气氛:氧气气氛
脱脂烧结一体化:脱脂阶段,炉内微负压;烧结阶段,炉内微正压。
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