ALCERA--ITO靶材炉

氧化烟锡（俗称ITO）薄膜被广泛应用在平板显示器、半导体领域及其他的元器件上。市场需求量保持着极高的年增长率，但是高端靶材几乎被国外的几家公司垄断，国内的需求不得不依靠进口，价格高交期长。

ALC针对市场需求，引进日本技术，不断研发改进，推出性能卓越的ITO靶材烧结炉，助力国内高端靶材市场，提供大尺寸平板烧结炉，管靶烧结炉，为国内靶材制造商烧结工艺增加了更多的选择。

性能参数：

使用温度：1650度

炉内气氛：氧气气氛

脱脂烧结一体化：脱脂阶段，炉内微负压；烧结阶段，炉内微正压。